Alle Artikel mit dem Schlagwort: EUV

Gerd Teepe. Foto: Heiko Weckbrodt

Halbleiter-Engpass und Tesla-Schock bergen Chancen für Mikroelektronik in Sachsen

Mikroelektronik-Experte Gerd Teepe warnt vor drohenden chronischen Wettbewerbnachteilen für deutsche Industrie Dresden, 14. Oktober 2021. Deutschland muss unbedingt seine Mikroelektronik-Kapazitäten ausbauen und technologisch verbessern – andernfalls drohen vielen Leitindustrien in Zukunft chronische Wettbewerbsnachteile im Vergleich zur Konkurrenz in Asien und den USA. Das hat der Halbleiter-Experte Gerd Teepe in Dresden gefordert. „Keiner kann wollen, dass die deutsche Automobilindustrie und andere Branche in Zukunft die Chips der Spitzenklasse nur noch mit ein bis zwei Jahren Verzögerung bekommen.“

"Alix Labs" erzeugt mit dem APS-Verfahren Nanostrukturen. Foto: Alix Labs

Alixlabs sammelt 9 Millionen Kronen Risikokapital ein

Schwedische Mikroelektronik-Firma testet ihre APS-Halbleitertechnologie in Sachsen Lund/Dresden/Bannewitz, 28. September 2021. Um eine neuartige und vor allem preiswerte Herstellungsmethode für Highend-Chips weiterzuentwickeln, bekommt das junge schwedische Technologieunternehmen „Alixlabs“ aus Lund nun neun Millionen Schwedische Kronen (zirka 883.000 Euro) von Risikokapitalgebern. Beteiligt sind Almi Invest sowie private Investoren wie die Sport-Profis Michael, Alexander und William Nylander. Mit dem Geld wollen die Schweden ihre „Atomic Layer Etch Pitchsplitting“ (APS) genannte Fertigungstechnologie verbessern und in Bannewitz in Sachsen testen. Das hat Alixlabs-Chef Jonas Sundqvist mitgeteilt, der ähnlich wie viele seiner Mitstreiter eng mit dem Mikroelektronik-Standort Dresden vernetzt ist.

Blick in einen Mikrooptik-Reinraum von Jenoptik. Foto: Jenoptik

Jenoptik steckt 70 Millionen in neue Fabrik in Dresden

60 neue Jobs angekündigt Dresden/Jena, 16. September 2021. Jenoptik will rund 70 Millionen Euro in den Aufbau seiner geplanten neuen Fabrik in Dresden investieren. Dadurch sollen sich die Produktionskapazitäten in der sächsischen Landeshauptstadt verdoppeln. Auch die Belegschaft werde sich dadurch mehr als verdoppeln – um 60 auf dann 110 Mitarbeiter in Dresden. Das hat das Jenaer Technologieunternehmen heute mitgeteilt und damit frühere Ankündigungen präzisiert.

Eine Jenoptik-Mitarbeiterin in Berlin bei der Bedampfung optoelektronischer Bauteile. Foto: Torsten Proß von Jeibmann Photographik für Jenoptik (Pressedatenbank)

Millioneninvestition von Jenoptik in Dresden

Elektronenstrahl-Anlage soll neuartige Sensoren die EUV-Chipbelichtung ermöglichen Dresden/Jena, 18. November 2020. Jenoptik will in seinen Reinräumen in Dresden Präzisionssensoren der nächsten Generation entwickeln und produzieren. Der Technologiekonzern investiert deshalb in der sächsischen Landeshauptstadt einen zweistelligen Millionenbetrag. Mit dem Geld installieren die Ingenieure und Techniker dort eine moderne Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage des Ausrüsters „Vistec Electron Beam GmbH“ aus Jena. Das hat Jenoptik mitgeteilt, ohne aber eine genaue Investitionssumme zu nennen.

TSMC plant Chipproduktion mit Röntgen-Litho ab 2020

Taipeh, 14. Juli 2016. TSMC wird die Chipbelichtung mit weichem Röntgenlicht – die sogenannte EUV-Lithografie – etwa ab dem Jahr 2020 in seinen Chipfabriken in Taiwan einsetzen. Das berichtet der Branchendienst „EE Times“ unter Berufung auf TSMC-Vizechef Mark Liu. Die teuren EUV-Belichter sollen demnach bei der Produktion von 5-Nanometer-Chips zum Einsatz kommen.

Dr. Stefan Braun, Maik Menzel und Peter Gawlitza (v.l.n.r.) vor der Beschichtungsanlage für die Entwicklung von EUV-Reflexionsschichten im IWS Dresden. Foto: Fraunhofer IWS Dresden / Frank Höhler

Fraunhofer Dresden baut Weltrekord-Röntgenspiegel für Chip-Belichter

EUV-Optiken vom IWS reflektieren fast 71 % der Strahlen – für dieses Licht ein Spitzenwert Dresden, 12. Dezember 2015. Fraunhofer-Forscher aus Dresden haben verbesserte Röntgenspiegel für die Chip-Produktion gebaut. Diese Hightech-Spiegel steuern extremes Ultraviolett-Licht (EUV), auch „weiche Röntgenstrahlen“ genannt. Sie werden benötigt, um die Elektronik von übermorgen überhaupt erzeugen zu können. Die neuen EUV-Spiegel aus Dresden stellen neue Weltrekord-Werte in puncto Reflexionsgrad auf, teilte das Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik (IWS) Dresden mit: Die Spiegel werfen nun bis zu 70,75 % der EUV-Strahlen zurück, statt sie zu streuen oder zu verschlucken.

Einer der neuen 7-Nanometer-Testchips. Foto: IBM

IBM-Allianz zeigt erste 7-Nanometer-Chips

Auch Globalfoundries und Samsung an Bord Albany, 9. Juli 2015: Von wegen, die Mikroelektronik stößt demnächst an ihre physikalischen Grenzen, wie seit Jahren geunkt: Einer Forschungsallianz von IBM, Globalfoundries, Samsung und weiteren Partnern ist es jetzt in Albany bei New York gelungen, erste funktionsfähige Computerchips der 7-Nanometer-Generation herzustellen, wie IBM heute mitteilte. Zum Vergleich: Die kleinsten Strukturen auf diesen Testchips sind nur etwa halb so groß wie selbst die fortschrittlichsten Serien-Halbleiter, die bisher nur ganz wenige Elektronikkonzerne wie Intel herstellen können und in denen die Strukturen bis auf 14 Nanometer (Millionstel Millimeter) herunterreichen. Das entspricht etwa dem Zehntausendstel Durchmesser eines menschlichen Haares.

Reinraumbrücke bei Globalfoundries Dresden. Abb.: GF

Chipwettlauf stockt: Globalfoundries will auf Jahre bei 28-nm-Technologie bleiben

Auftragsfertiger will Technik durch Metalltor-Transisitoren „aufbohren“ und bittet Sachsen um 10,6 Millionen Euro Förderhilfe Dresden, 30. April 2014: Der Halbleiter-Auftragsfertiger „Globalfoundries“ (GF)) will für etwa zehn Jahre aus dem Branchen-Wettlauf um immer feinere Chipstrukturen aussteigen. Zumindest am Standort Dresden werde man die jüngst entwickelte 28-Nanometer-Fertigungstechnologie bis über das Jahr 2020 hinaus als bestimmende Produktionsmethode weiternutzen, bestätigten die Dresdner GF-Manager Gerd Teepe und Jens Drews auf Oiger-Anfrage – normalerweise sind in der Spitzen-Mikroelektronik Innovationszyklen von zwei bis vier Jahren üblich. Hauptgrund: GF hält die neuen Chip-Belichtungstechniken per Doppelmuster („Double Patterning“) und Röntgenlicht („EUV„) noch für zu teuer und zu unausgereift, um darauf umzurüsten.

Spitzenmanager und EU-Vertreter beraten Europas Mikroelektronik-Strategie

Stresa/Dresden/Brüssel, 18. Februar 2013: Spitzenmanager der europäischen Halbleiterindustrie und EU-Vertreter wollen Ende dieser Woche beim Industrie-Strategiesymposium „ISS 2013“ im italienischen Stresa nahe Mailand den technologischen und wirtschaftspolitischen Kurs der europäischen Mikroelektronik für die kommenden Jahre beraten. Das kündigte der Branchenverband SEMI Europe als Organisator der Tagung an.

Mehr Mut von Europa beim Technologiesprung zu EUV und 450-mm-Fabs gefordert

Innovationsforum für Fabrikautomatisierung in Dresden Dresden, 22. Januar 2013: Mehr Mut und visionären Geist beim Umstieg auf neue Technologien wie 450-mm-Wafer und die Röntgenstrahl-Belichtung fordert der Industrieanalyst Malcom Penn von der europäischen Halbleiter-Branche. Die jetzt getätigten Weichenstellungen seien entscheidend für die Zukunft von Europas Mikroelektronik, meint der Analyst des Marktforschungs-Unternehmens „Future Horizons“. „Kleinmütigkeit funktioniert hier nicht“, betont der Analyst. Seine Ansichten über den „Wind of Change“, den Wandel in der Mikroelektronik-Branche, will Penn am Donnerstag auf dem „10. Innovation Forum for Fab Automation” (24. und 25. Januar 2013) in Dresden darlegen, dessen Gastgeber diesmal der Chipauftragsfertiger „Globalfoundries“ sein wird.

Globalfoundries und Toppan investieren 100 Millionen Euro in Dresdner Chipmaskenzentrum AMTC

Joint Venture wird für Röntgen-Chiptechnik und 14-Nanometer-Generation fit gemacht Dresden, 12. Dezember 2012: Globalfoundries und Toppan Photomasks investieren in den nächsten Jahren rund 100 Millionen Euro in das Dresdner Chipmasken-Forschungszentrum AMTC, um es für den Vorstoß zu noch feineren Halbleiter-Strukturen aufzurüsten. Das gaben beide Unternehmen heute bekannt. Mit dem Geld sollen die AMTC-Forscher unter anderem Chip-Belichtungsvorlagen entwickeln, die für den Einsatz von weichem Röntgenlicht (Extremes Ultraviolett = EUV) und optischen Verfahren benötigt werden, wenn in naher Zukunft 14-Nanometer-Chips gefragt sind.

Dresdner Röntgenspiegel leuchten Zukunft der Chipfabriken aus

Schlüsselkomponente für EUV-Lithografie wurde am Fraunhofer-Institut IWS entwickelt Dresden/Veldhoven, 24. August 2012: Nach den Milliardeninvestitionen von Intel und des taiwanesischen Chip-Auftragsfertigers TSMC in den niederländischen Spezialanlagenbauer ASML (Wir berichteten) ist zu erwarten, dass sich der Umstieg der Mikroelektronik-Branche auf die neue Röntgen-Lithografie (Extremes Ultraviolett = „EUV“) spürbar beschleunigen wird. Und wenn die neuartigen Belichter ausgeliefert werden, dann ist voraussichtlich eine Schlüsseltechnologie der Dresdner Fraunhofer-Forscher an Bord, nämlich Röntgenspiegel.

1,1 Milliarden € für Röntgen-Litho und 450-mm-Technik: Taiwans Chipkönig TSMC steigt bei ASML ein

Taipeh/Veldhoven, 5.8.2012: Nach Intel steigt nun auch die taiwanesische „TSMC“ milliardenschwer beim niederländischen Chipfabrik-Anlagenhersteller „ASML“ in Veldhoven ein, um den Übergang zu Röntgen-Lithografie (EUV) und 450-Millimeter-Wafer zu forcieren. Wie beide Unternehmen heute mitteilten, erwirbt der weltweit größte Chip-Auftragsfertiger TSMC für 838 Millionen Euro fünf Prozent der ASML-Anteile. Weitere 276 Millionen Euro investieren die Taiwanesen in den nächsten fünf Jahren in das Lithografie-Forschungsprogramm der Niederländer.

Globalfoundries: Sehen noch signifikante Probleme auf dem Weg zu EUV und 450-mm-Wafern

Dresden, 10.7.2012: Chip-Auftragsfertiger „Globalfoundries“ (GF) hat eher zurückhaltend auf die heutige Ankündigung von Intel reagiert, rund 3,3 Milliarden Euro in ASML zu investieren, um den Umstieg auf Röntgenlithografie (EUV) und 450-Millimeter-Wafer zu beschleunigen. Es seien noch „signifikante Herausforderungen“ zu lösen, bevor man EUV und 450-mm-Technik im Fabrikmaßstab einsetzen könne, erklärte der Dresdner GF-Sprecher Jens Drews auf Oiger-Anfrage.