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Schlechte Karten für Dünnschicht-Solartechnik

Dresden/Freiberg, 9.8.2011: Solarzellen-Technik auf Dünnschichtbasis hat auf dem Markt derzeit schlechte Chancen: “Diese Technologie steht wegen der Silizium-Preisentwicklung und ihrer Effizienprobleme ziemlich unter Druck”, schätzte Heinz-Martin Esser ein, Präsident des sächsischen Hightech-Verbandes “Silicon Saxony” und selbst Chef der Dresdner “Roth & Rau”-Tochter “Ortner”, im Oiger-Interview. “Noch vor ein paar Jahren war Silizium ein großer Kostenblock bei der Solarzellenproduktion”, sagte Esser. “Ab 2007/2008 haben aber viele Firmen deshalb neue Silizium-Schmelzen aufgemacht, der Siliziumpreis ist dadurch auf dem Weltmarkt nach unten gegangen.” Deshalb habe sich der große Vorteil der Dünnschichttechnologie gegenüber der Solarzellenfertigung auf kristallinen Siliziumwafern stark relativiert. Da sich aber auch die Energieausbeute bei monokristallinen Zellen der 18-Prozent-Marke annähere, Dünnschichtzellen hingegen nur auf eine Effizienz von 12,5 bis 13 Prozent kommen, sei die Nachfrage für letztere eingebrochen. In der Folge gingen auch in Sachsen Firmen wie Sunfilm Großröhrsdorf und Signet Solar in Mochau pleite, die in die Dünnschicht-Technik eingestiegen waren. Auch andere Solarunternehmen in Mitteldeutschland gerieten unter Druck, weil vor allem in China inzwischen viele Fabriken die Produktion ankurbelten, die Photovoltaik-Module deutlich billiger als die Deutschen …