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Elektronenstrahl-Guru Siegfried Schiller wird 80

Siegfried Schiller (Archivfoto). Repro: Fraunhofer FEP

Siegfried Schiller (Archivfoto). Repro: Fraunhofer FEP

Dresden, 15. Februar 2013: Einer der Väter der Elektronenstrahltechnologie, die einst mit dem Röhrenfernseher groß wurde und inzwischen in Nanoelektronik und Lebensmittel-Branche eine Renaissance erlebt, wird morgen 80 Jahre alt: der Dresdner Physiker Professor Siegfried Schiller. Zu seinen ideellen Gratulanten gehört vor allem das Dresdner Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik (FEP), das er als Gründungsdirektor ab 1991 aufgebaut hatte.

Vizechef am einzigen Privatinstitut der DDR

Schiller wurde am 16. Februar 1933 im schlesischen Simsdorf geboren und studierte nach dem Krieg an der Uni Leipzig Physik. 1965 bis 1990 war er stellvertretender Leiter des einzigen privaten Forschungsinstituts des DDR, des Dresdner Instituts von Manfred von Ardenne, aus dem später unter anderem die „Von Ardenne Anlagentechnik“ hervorging. 1991 bis 1999 leitete er das Fraunhofer-Institut FEP, das an die Elektronenstrahl- und Plasma-Forschungen von Ardenne und Schiller in der Vorwende-Zeit anknüpfte.

Die Elektronenstrahltechnologie gewann ab den 1920er Jahren für die Rechen- und Fernsehtechnik immer mehr an Bedeutung. Heute sind Röhrenfernseher ,-radios und -rechner zwar so gut wie ausgestorben. Dafür aber werden Elektronenstrahlen industriell breit eingesetzt: Unter anderem zur Härtung von Turbinenschaufeln, bei speziellen Schweißaufgaben und zur Oberflächenbearbeitung.

Elektronen im Kampf gegen multiresistente Keime gefragt

Bereits in den 1980er Jahren hatten Schiller und andere am Ardenne-Institut auch die desinfizierende Wirkung beschleunigter Elektronen untersucht. Diese Anwendung wird zunehmend wichtiger, um zum Beispiel in Krankenhäusern multiresitente Keime zu neutralisieren oder um Bakterien, Pilze und Viren in der Landwirtschaft abzutöten. Das FEP (heute 130 Mitarbeiter, 16 Mio. € Jahresbudget) knüpfte an diese Forschungen an und entwickelte eine Demonstratoranlage, die Saatgut vergleichsweise schonend mit Elektronenstrahlen behandelt.

„Seit 2011 wurde die jährliche Produktionsmenge von elektronenbehandeltem Saatgut gegenüber den Vorjahren auf rund 9000 Tonnen etwa verdreifacht“, teilte das FEP mit. Im vergangenen Jahr habe die Produktion von Elektronen-behandeltem Saatgut die Marke von 11.000 Tonnen und damit die Kapazitätsgrenze der Demonstrationsanlage überschritten – ein Institutskunde habe bereits eine zweite maßgeschneiderte Anlage in Auftrag gegeben.

EUV-Chipmaske oder Elektronenstrahl - wo liegt die Zukunft? Abb.: AMTC

EUV-Chipmaske oder Elektronenstrahl – wo liegt die Zukunft? Abb.: AMTC

Ohne E-Strahlen keine Chipmasken

Da Elektronen zudem vergleichsweise feine Partikel sind, deren Strahlen präziser als Belichtungsanlagen arbeiten, werden E-Strahlen zudem für die Produktion von Chipmasken benötigt. Auch der Einsatz von Elektronenstrahlen für die Halbleiterproduktion selbst wird wieder erwogen – dem steht allerdings entgegen, dass diese Strahlen wie ein Stift Strukturen nacheinander erzeugen, nicht aber parallel und auf einen Schlag. Heiko Weckbrodt

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